[摘要]目的：研究安氏I类错牙合患者中，分别采用微型种植体作支抗与口内支抗腭向移动上颌第二磨牙进行比较，以评价两种方法各自的特点。方法：将20例成人患者随机分成两组，分别采用两种方法腭向移动上颌磨牙。测量上颌第二磨牙在移动速度和颊舌向、垂直方向的位置变化，以衡量磨牙的位置改变。结果：种植体作支抗组上颌第二磨牙平均腭向移动3.8mm，疗程4.4个月，平均移动速度0.86mm/月，磨牙垂直向压低0.45mm。对照组上颌第二磨牙平均腭向移动4.0mm，疗程6.2个月，平均移动速度0.65mm/月，磨牙垂直向伸长1.86mm。结论：两种方法比较，种植体的支抗更强，磨牙移动速度更快。二者磨牙的移动方式有所区别。
[关键词]磨牙腭向移动；种植体支抗；口内支抗；安氏I类错牙合
[中图分类号]R783.5 [文献标识码]A [文章编号]1008-6455（2011）05-0824-03
Comparison of palatal movement of maxillary second molar with two methods
GUO Jun,YANG Yong-jin,YAN Xin
(Department of Stomatology,General Hospital of The Second Artillery,Beijing 100088,China)
Abstract:ObjectiveTo evaluate characters of micro-implant anchorage and intraoral anchorage during maxillary second molars mesialization in Class I malocclusal patients. Methods 24 patients were divided into two groups equally.Measuring movement speed and position changes of maxillary second molars from buccopalata and vertical position.ResultsIn implant anchorage group:the velocity of maxillary second molar was 0.86 mm per month,palatal movement 3.8mm,intrusive movement 0.45mm.In intraoral anchorage group: the velocity of maxillary second molar was 0.65 mm per month,palatal movement 4.0 mm,extrusive movement 1.86 mm.ConclusionTwo methods successfully palatalize maxillary molars to appropriate positions. But implant anchorage is stronger and faster than another.Then move mode of maxillary molar differenciate from each other.
Key words:molar palatal movement;implant anchorage;intraoral anchorage;angle I malocclusion
在临床正畸治疗过程中，一般以第一磨牙、尖牙的中性关系，牙齿良好的尖窝相对关系，前牙正常覆牙合、覆盖为矫治目标[1]。但是由于上颌第二磨牙颊向错位而导致的咬合关系不良[2]，在临床中也比较常见。因为第二磨牙位于口腔靠后位置，临床操作不方便，加之对咀嚼功能影响不大，往往容易被医师和患者所忽视。本研究利用微型种植体作支抗来腭向移动上颌第二磨牙，并将之与临床较为常用的颌间交互牵引法作比较，以便为临床寻求一种更为高效、实用的临床方法。
1材料和方法
1.1临床资料：患者20例（男8例，女16例），年龄18～32岁，平均23.5岁。其中9例患者双侧上颌第二磨牙颊向移位，11例患者单侧上颌第二磨牙颊向移位。将所有患者采用完全随机化的分组方法分成两组，每组患者10例。具体纳入标准如下：①上下颌第一磨牙为中性关系；②上下颌牙列正常或轻度拥挤，牙齿排列不齐；③上颌第三磨牙先天缺失或矫治前拔除；④侧貌面型基本正常；⑤身体健康，未接受过正畸治疗。
1.2 治疗方法：分别采用微型种植体支抗与口内支抗颊向移动上颌第二磨牙，所有患者均采用非拔牙矫治(上颌第三磨牙若萌出在则术前予以拔除)。具体分组及临床操作如下。
1.2.1第1组（种植体支抗组）：常规装配上下颌直丝弓矫治器，排齐整平上下颌牙列的同时，将种植体植入预定部位（上颌第一磨牙和上颌第二磨牙之间的腭侧牙槽骨内）。术后即刻加力，开始腭向移动上颌第二磨牙的治疗。在上颌第二磨牙颊侧粘接颊面管，将弹性皮链两端分别固定于上颌第二磨牙颊面管的颊侧拉钩与种植体上，测力计测得力量约250g，每2周复诊1次。弓丝末端打磨圆钝，并且超出上颌第一磨牙带环末端约1.5mm，打弯紧贴于上颌第一磨牙远端，以不妨碍第二磨牙腭向移动为宜。
1.2.2第2组（对照组）：常规装配上下颌直丝弓矫治器，排齐整平上下颌牙列的同时，分别在上颌第二磨牙颊侧和下颌第二磨牙舌侧粘接颊面管，利用弹性皮圈行颌间交互牵引，以矫正颊向移位的上颌第二磨牙，测力计测得息止颌位力量约250g，嘱患者夜间睡觉戴用，每4周复诊1次。
1.3 测量方法：每一位患者治疗前后均由同一名技师拍摄正中颌位头颅定位侧位片，同一名护师制取研究模型，所有X线片均由同一名口腔正畸科医师在一段集中的时间内用硫酸纸描图、定点、测量，并进行计算，所有模型由同一名口腔正畸科医师在一段集中的时间内定点、测量，并进行计算。
1.4 X线片测量项目
1.4.1测量基准平面（线）：腭平面（Palatine Plane,PP）：通过前鼻棘（Anterior nasal spine,ANS）与后鼻棘(Posterior nasal spine,PNS)连线的水平面。
1.4.2测量项目：M7-PP：测量上颌第二磨牙牙冠中点至PP平面的距离，以此表示上颌第二磨牙的垂直位置。M6-PP：测量上颌第一磨牙牙冠中点至PP平面的距离，以此表示上颌第一磨牙的垂直位置。
1.5研究模型测量项目
1.5.1测量基准平面（线）：腭中缝平面（Median Palatine Plane,MPL）：通过腭中缝连线的垂直平面。
1.5.2测量项目：①M7-MPL：测量上颌第二磨牙牙合面中央窝至MPL平面的距离，以此表示上颌第二磨牙的颊舌向位置；②M6-MPL：测量上颌第一磨牙牙合面中央窝至MPL平面的距离,以此表示上颌第一磨牙的颊舌向位置；③M7- MPL角：测量上颌第二磨牙远颊尖、近舌尖连线与MPL平面的夹角，以此表示上颌第二磨牙的水平向位置；④M6-MPL角：测量上颌第一磨牙远颊尖、近舌尖连线与MPL平面的夹角，以此表示上颌第一磨牙的水平向位置。
2结果
各测量值均进行两样本t检验，以比较两种治疗方法的结果有无统计学差异。结果种植体支抗组第二磨牙发生了更多的远中腭向水平旋转，对照组第二磨牙伸长更明显。两组中第一磨牙的位置没有发生改变。具体测量及统计分析结果见表1。
3讨论
微型种植体的出现，为正畸临床带来了许多方便。由于其体积小，植入部位灵活，患者依从性小[3]，而且本研究种植体植入部位在上颌腭侧牙槽骨，不受唇颊粘膜的影响，容易清洁，这就为磨牙移动所需的支抗提供了保证。目前国内正畸医师利用微型种植体支抗近远中移动磨牙、压低磨牙均取得了良好的临床疗效[4]，但是腭向移动上颌磨牙的报道较少见。笔者试将种植体植入上颌磨牙腭侧齿槽骨，然后通过种植体直接加力，纠正颊向错位的上颌第二磨牙，取得了不错的临床效果。传统的做法是对于颊向错位不严重的磨牙，可以通过颊侧粘接颊面管，将其纳入上颌固定矫治系统，利用主弓丝的力量逐渐矫正[5]；颊向错位严重者，则通过上下颌磨牙的颌间交互牵引来矫正[6]。但是，前述第1种方法适用范围比较窄，第2种方法又高度依赖患者的配合程度，矫治效果不能得到保证。
两种方法相比较，种植体支抗组移动速度更快，磨牙轻度压低，但发生了明显的远中腭向水平旋转；对照组磨牙伸长明显，没有水平旋转。种植体对上颌第二磨牙施加的主要是水平向力，力的方向是向腭侧并偏向近中，结果第二磨牙在向腭侧移动的同时，发生了围绕第一磨牙的腭向水平旋转，如果同时在上颌第二磨牙远中腭侧植入种植体并对磨牙施力，就会减轻磨牙的水平旋转，但在临床实际操作中在这个部位植入种植体是很困难的[7]，同时磨牙远中腭向的水平旋转也容易在后期通过镍钛弓丝加以矫正。在对照组，磨牙位置的矫正时间和效果取决于患者配合程度，结果速度较慢，磨牙伸长明显，给后期矫治增加了困难，因为磨牙的压低是比较困难的[8]。
上颌第二磨牙的颊向错位是后牙区拥挤的表现，所以在开始矫治前须要拔除相邻的上颌第三磨牙（如已萌出），以期为后面的矫治带来便利。上颌第二磨牙的矫治时机选择在上下颌牙列排齐的同时，目的是为了使第二磨牙尽早进入矫治系统，便于矫治计划的整体顺利进行，提高矫治效率。随着磨牙位置的改变，可能会出现由于磨牙早接触导致的前牙开牙合，要密切观察，及时采取相应措施（如调牙合或者压低磨牙等），尽快消除副作用。
[参考文献]
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[收稿日期]2011-03-10 [修回日期]2011-04-15
编辑/何志斌
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